[00092002]磁控濺射設備
技術詳細介紹
一種磁控濺射設備，包括殼體、靶材、爐盤及多個擋板；所述殼體開設有反應腔；所述靶材收容于反應腔內并固定于所述殼體的內壁上；所述爐盤收容于反應腔內，所述爐盤固定于所述殼體的內壁并與所述靶材相對；所述多個擋板設置于所述殼體的內壁上，分布于所述爐盤的周圍。上述磁控濺射設備中，其反應腔內壁上設有擋板。擋板用來阻擋射向反應腔內壁的濺射粒子，并對濺射粒子進行沉積，防止其形成碎渣并掉落，影響反應腔內制備的薄膜的質量。
一種磁控濺射設備，包括殼體、靶材、爐盤及多個擋板；所述殼體開設有反應腔；所述靶材收容于反應腔內并固定于所述殼體的內壁上；所述爐盤收容于反應腔內，所述爐盤固定于所述殼體的內壁并與所述靶材相對；所述多個擋板設置于所述殼體的內壁上，分布于所述爐盤的周圍。上述磁控濺射設備中，其反應腔內壁上設有擋板。擋板用來阻擋射向反應腔內壁的濺射粒子，并對濺射粒子進行沉積，防止其形成碎渣并掉落，影響反應腔內制備的薄膜的質量。
