本發明公開了一種復合電介質材料、采用其制作的半固化片以及覆銅箔層壓板。所述復合電介質材料按質量百分比計,包含:雙馬來酰亞胺化合物:4%~30%、氰酸酯單體:7%~30%、環氧樹脂:2%~20%、烯丙基酚類化合物:2%~20%、催化劑:0.5~5%、無機填料:30%~80%。其中無機填料為高介電氧化物和/或導電顆粒,并通過表面接枝或表面包覆改性以實現其在有機基體中的均勻分散。所述復合電介質材料制備的半固化片,通過將復合電介質材料涂覆于銅箔表面并經80~100℃熱處理得到。覆銅箔層壓板通過將半固化片在120~200℃層壓得到。該覆銅箔層壓板具有高玻璃化轉變溫度、高介電常數、低介電損耗、高剝離強度等優良特性,能夠用于制作耐高溫嵌入式電容器PCB。