本發明適用于真空鍍膜技術領域,公開了一種輻射式蒸發加熱器及該輻射式蒸發加熱器的制造方法。輻射式蒸發加熱器包括加熱室、蒸發皿和電源連接器件,蒸發皿連接于加熱室或與加熱室一體成型,加熱室具有加熱腔,加熱腔與蒸發皿之間相隔開,加熱腔內設置有通過輻射對蒸發皿進行加熱的加熱器件,加熱器件連接于電源連接器件。制造方法用于制造上述的輻射式蒸發加熱器。本發明所提供的輻射式蒸發加熱器及該輻射式蒸發加熱器的制造方法,其克服了現有蒸發加熱裝置與蒸發材料同處一室造成的加熱絲損耗及薄膜污染等問題,使真空蒸發技術應用領域更加廣泛;蒸鍍薄膜純度大幅提高;具有真空鍍膜效果佳、成本低、更換、清潔方便等優點。