[00079242]一種一維激光掃描測頭裝置
技術詳細介紹
本實用新型涉及一種一維激光掃描測頭裝置，包括用于發射第一激光束的第一激光源，用于將第一激光束反射至測球的激光反射平面，并將測球的激光反射平面反射的激光束透射至第一光電探測器的分光鏡，處理器根據第一光電探測器所接收到的激光束的位置變化值，得到測桿的變形量，同時包括用于測量測量基座一維位移變化的測量組件，所述測量組件包括第二激光源和第二光電探測器。本實用新型實施例提供的一維激光掃描測頭裝置，不僅可以測量支撐座的直接位移變化，還可以測量測桿的變形，因此與傳統的一維測頭裝置相比，本實用新型實施例提供的一維激光掃描測頭裝置的測量精度更高，且結構簡單，易于批量生產。
