[00074501]一種基于納米壓印的圖形轉移制備光柵的方法
聯系人： 武漢理工大學
所在地： 湖北武漢市
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技術詳細介紹
摘要：本發明屬于光學薄膜微納結構制備技術領域。一種基于納米壓印的圖形轉移制備光柵的方法，其特征在于包括有以下步驟：1）基片上聚合物的涂布；2）壓模模板的制備；3）壓印過程：把涂敷聚合物的基片及壓模模板安裝到壓印機的兩個壓印盤上，加熱到聚合物玻璃態相變點溫度附近時，加壓，使聚合物充滿壓模圖案，然后進行冷卻；當溫度降到相變點附近時，將壓模模板與基片分開，得到聚合物掩模槽型；4）微納圖形轉移：直接利用電子束蒸發法將所需光柵脊材料填充進聚合物掩模槽型中，利用光控膜厚技術監控沉積厚度，再用有機溶劑溶解聚合物花紋，形成與掩?；パa的光柵結構，得到基于納米壓印的圖形轉移制備光柵。該方法制備工藝簡單，生產成本低。
