[00073465]一種光學元件揮發溶劑循環回收利用的自動清洗方法
技術詳細介紹
本發明公開了一種光學元件揮發溶劑循環回收利用的自動清洗方法，包括上料、超聲清洗、噴淋清洗、烘干出料和循環回收步驟。本發明能夠有效解決對無磨料水溶解超精密拋光后的諸如KDP類的光學晶體元件的清洗問題。由于本發明清洗過程中沒有固體顆粒物質，使用高頻超聲的沖刷作用和風淋等非接觸式的清洗措施，防止了外力對軟脆光學元件造成損害，保證了清洗元件的表面質量。本發明實現了對光學元件的多工位自動化清洗，并且將清洗過程中易揮發清洗液產生的揮發廢氣和清洗廢液引導入循環回收系統，進行冷凝液化后回收再利用，實現環保無排放清洗，減少了浪費，防止了環境污染，提高了經濟性。本發明的清洗參數實時可調，使清洗過程易于控制。
