[00073222]一種全息－離子束刻蝕制備光柵的方法
聯系人： 蘇州大學
所在地： 江蘇蘇州市
- 服務承諾
- 產權明晰
-
資料保密
對所交付的所有資料進行保密
- 如實描述
技術詳細介紹
摘要：本發明公開了一種全息－離子束刻蝕制備光柵的方法，首先進行全息光刻，獲得光刻膠光柵掩模，然后進行離子束刻蝕，最后去除殘余的光刻膠，獲得所需的光柵，其特征在于：所述離子束刻蝕為，先用氬離子束進行刻蝕1至3分鐘，再用三氟甲烷反應離子束刻蝕至所需槽形深度。本發明在離子束刻蝕中，采用了兩步法，首先進行氬離子束刻蝕，對光刻膠光柵掩模進行形貌修正，再采用三氟甲烷進行刻蝕，從而可以獲得較小占寬比的光柵；通過對氬離子束刻蝕的時間控制，實現對光柵占寬比的控制，方法簡便、易于實現，是控制刻蝕光柵占寬比的有效方法。
