交易價格: 面議
所屬行業: 其他儀器儀表
類型: 發明專利
技術成熟度: 正在研發
專利所屬地:中國
專利號:CN201510011115.5
交易方式: 完全轉讓 許可轉讓 技術入股
聯系人: 南昌航空大學
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所在地: 江西南昌市
摘要:本發明公開了一種以透明陶瓷為基底材料制作二元光學元件的方法,采用未摻雜的釔鋁石榴石透明陶瓷用作二元光學元件的基底材料,通過磁控濺射系統裝置在透明陶瓷表面濺射一層致密抗氧化金屬膜,借助接觸式光刻系統將掩模板中的光柵等二元光學元件微結構轉印至透明陶瓷的金屬膜中,使其保留在透明陶瓷上。該基底材料具有耐高溫、耐高壓、耐腐蝕,硬度高,且在紅外波段具有良好的透過率等優點,適合于制作透射式和反射式二元光學元件,能夠克服傳統的不透明硅系列基材不能制作透射式二元光學元件、無法應用于特殊環境的不足。
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