本發明公開了一種光學元件揮發溶劑循環回收利用的自動清洗裝置,設置有上料、超聲清洗、噴淋清洗和烘干下料四個工位,同時結合控制氣缸的運動,可以完成對光學元件的自動上下料、多工位自動超聲清洗和噴淋清洗,使整個清洗過程全部自動化。本發明的主體除了需要與外界交換物料的部分外,其余全部采用防腐密封處理,各個清洗工位在工作時均被隔門單獨隔開,防止了清洗液噴濺造成工位之間交叉污染和二次污染,保證了清洗質量。本發明在清洗過程中產生的揮發廢氣和廢液實時被分別引導入循環回收系統,壓縮機對廢氣進行冷凝液化后回收再利用,實現環保無排放清洗,減少了浪費,防止了環境污染,提高了經濟性。