[00054566]一步模板法制備有序鐵電納米點陣列的方法
聯系人： 華南師范大學
所在地： 廣東廣州市
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技術詳細介紹
摘要：本發明涉及一種一步模板法制備有序鐵電納米點陣列的方法，其包括以下步驟S1采用脈沖激光沉積法在襯底上沉積高性能外延鐵電薄膜；S2轉移單層PS小球至鐵電薄膜表面作為掩模板；S3將附有掩模板的襯底用氧等離子體刻蝕處理，得到待刻蝕樣品；S4將所述待刻蝕樣品置于離子束刻蝕機中進行刻蝕；S5去除殘留的單層PS小球掩模板，得到有序的鐵電納米點陣列。該制備方法簡單、模板清除方便，且制得的鐵電納米點保存了鐵電薄膜優異的外延性和鐵電性，適合大面積制備。
