聯系人: 華南理工大學
所在地: 廣東廣州市
摘要:本發明公開了一種銅-金剛石復合鍍層及其制備方法。所述復合鍍層從下到上由銅鍍層、銅-金剛石復合上砂鍍層和銅加固層組成。制備方法包括以下步驟:在工件表面先用電鍍法沉積銅鍍層,然后在銅鍍層的表面沉積銅-金剛石復合上砂鍍層,最后在銅-金剛石復合上砂鍍層的表面沉積銅加固層,即得到銅-金剛石復合鍍層。該銅/金剛石復合鍍層體積密度含量高,分散均勻,可用作CVD在銅基體上沉積金剛石薄膜的底層,沉積出的CVD金剛石膜具有鑲嵌結構界面,提高CVD金剛石膜/銅基界面結合力。