[00050635]一種高質量氧化鋁陶瓷的刻蝕加工方法及裝置
技術詳細介紹
摘要：本發明公開了一種氧化鋁陶瓷的刻蝕加工方法及裝置，該方法使潔凈的氧化鋁陶瓷整體位于水中，水表面到氧化鋁陶瓷材料表面距離為2mm～12mm，利用紫外脈沖激光對氧化鋁陶瓷進行掃描刻蝕加工，刻蝕加工后的氧化鋁陶瓷表面無發黑變質層和重凝層。裝置包括紫外激光器、掃描振鏡，二維加工平臺，以及用于裝水和待加工的氧化鋁陶瓷的容器。本發明巧妙的引入“水”的因素，在一定厚度或一定流速的水下對氧化鋁陶瓷進行激光刻蝕的冷卻和排渣效應，有效的避免了空氣中直接刻蝕出現的發黑變質現象，并且也增加了刻蝕深度，改善了刻蝕質量并提高了激光刻蝕加工效率，利用本發明可以在氧化鋁陶瓷表面激光刻蝕制作出各種高尺寸精度的三維復雜圖案。
