[00050570]一種超疏水凹角T狀微柱結構的制備方法
技術詳細介紹
摘要：本發明公開了一種超疏水凹角T狀微柱結構的制備方法，包括：(a)在基片的一個表面旋凃光刻膠，并執行顯影操作得到第一圓孔陣列；(b)在基片含光刻膠表面依次沉積粘附層和種子層；(c)在種子層表面旋凃光刻膠，并執行顯影操作得到第二圓孔陣列；(d)同時對第一圓孔陣列和第二圓孔陣列進行電鍍填充，得到金屬的T狀微柱結構；(e)去除光刻膠及多余粘附層和種子層；(f)在T狀微柱表面沉積一層保護層；(g)去除微柱T狀結構的橫狀伸出部分并保留柱狀結構和保護層，得到一種凹角T狀微柱結構。按照本發明的制造方法，能非?？煽氐刂苽洳煌叨鹊哪繕私Y構，工藝窗口寬，重復性好，化學穩定性高，同時擁有優異的超疏水性、自清潔能力。
