摘要:本發明公開了一種基于三明治結構的柔性硅薄膜,其以硅晶圓片為基礎,通過背面刻蝕減薄硅片后雙面涂覆聚合物膜形成“聚合物膜?單晶硅膜?聚合物膜”的柔性三明治結構薄膜,其制備方法包括以下具體步驟:硅晶圓片的準備;硅片正面沉積保護膜;硅片背面沉積保護膜及圖形化;硅片背面的堿性溶液濕法刻蝕,期間形成有環狀保護外框;硅單晶膜正面和背面分別涂覆聚合物膜及曝光烘膠,切除環狀保護外框。本發明的三明治結構薄膜,外層的聚合物膜對中間的硅膜既起保護作用以避免制作到其上的電子器件受到外界環境的腐蝕,又能增加基于三明治結構的硅薄膜的柔性,提高器件性能;工藝過程中形成的環狀保護外框增加了工藝操作的可行性。