[00046627]連續浮雕結構微光學元件干法刻蝕圖形傳遞誤差補償方法
聯系人： 哈爾濱工業大學
所在地： 黑龍江哈爾濱市
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技術詳細介紹
摘要：一種連續浮雕結構微光學元件干法刻蝕圖形傳遞誤差補償方法，該方法包括以下步驟：①以連續浮雕結構微光學元件的理想形貌為基準，得到抗蝕劑表面設計輪廓，并以此為起點；②通過MCFPM模型，仿真分析得到該抗蝕劑輪廓經過干法刻蝕后的傳遞形貌；③將步驟②中得到的仿真傳遞形貌與理想形貌相比較，得到圖形傳遞誤差，并將其疊加到步驟②起始的抗蝕劑表面輪廓上，得到經過補償后抗蝕劑設計輪廓；④以步驟③中得到的抗蝕劑設計輪廓作為新的仿真起點，重復進行步驟②和③，得到二次補償的仿真形貌；⑤重復步驟④所述的仿真及迭代過程，直至仿真傳遞形貌和理想形貌的誤差滿足要求；該方法具有成本低、普適性好等特點。
