聯系人: 哈爾濱工業大學
所在地: 黑龍江哈爾濱市
摘要:光刻機工件臺的一體式平衡質量裝置,屬于半導體制造裝備技術領域,本發明為解決現有光刻機平衡技術采用兩個平衡質量塊存在同步設計難度大的問題。本發明包括基礎框架、平衡質量塊、垂向氣浮墊、Y向直線電機導軌部分、X向運動機構、平衡質量塊直線電機部分六個部分。平衡質量塊底面四個角上分別固定一個垂向氣浮墊,用以通過氣浮隔離底部的基礎框架從而實現系統的隔振與低摩擦運動。平衡質量塊上平面上安裝兩條Y向直線電機的導軌,作為Y向直線電機的定子部分,X向導軌部分安裝在Y向直線電機導軌上,平衡質量塊電機驅動平衡質量塊運動,從而對由于X向導軌反作用力造成的平衡質量塊的偏移進行補償,使平衡質量塊重新回到平衡位置。