交易價格: 面議
所屬行業: 專用化學
類型: 發明專利
技術成熟度: 正在研發
專利所屬地:中國
專利號:CN201010301123.0
交易方式: 完全轉讓 許可轉讓 技術入股
聯系人: 哈爾濱工業大學
所在地: 黑龍江哈爾濱市
摘要:硅鍺合金薄膜材料的制備方法,它屬于硅鍺合金薄膜領域。本發明解決了現有工藝制備硅鍺合金薄膜存在設備造價高、操作條件苛刻及使用氫氣使安全系數降低的問題。本發明方法如下:一、基片依次用丙酮、甲醇和超純水超聲清洗,然后自然晾干;二、配制電解液;三、采用三電極法進行電沉積,即在基片表面獲得硅鍺合金薄膜材料。本發明采用三電極法進行電沉積,所需設備造價低,方法簡單,容易操作,反應無需使用氫氣,提高生產的安全系數。
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