[00016979]鈦/氮化鈦納米復合硬質薄膜的制備方法
技術詳細介紹
發明專利名稱：鈦/氮化鈦納米復合硬質薄膜的制備方法 發明專利簡介：鈦/氮化鈦納米復合硬質薄膜的制備方法，將經過清洗干燥的工件放入原子層沉積設備的成膜室中，在100～200℃的條件下，沉積一層厚度為80～200nm的鈦薄膜，并降至室溫；取出工件放入濃度為0.05mol/L氫氟酸和0.01mol/L的硝酸混合溶液中，超聲浸泡0.5～2分鐘，清洗工件表面并干燥，利用原子層沉積的方法，在溫度為150～280℃的條件下，在工件表面沉積一層厚度為50～150nm厚的氮化鈦薄膜。利用原子層沉積設備沉積而成并在界面處通過腐蝕液進行刻蝕的納米復合結構鈦/氮化鈦硬質薄膜，薄膜的膜基結合力大于70N，硬度高于50GPa。
