[00016708]釹鐵硼高分子復合磁體
技術詳細介紹
技術投資分析：
簡介:
在深入研究NdFeB HDDR過程相變的基礎上，開發出氫化法制備NdFeB磁粉的新技術，優化了磁粉制備工藝，并利用氫化NdFeB磁粉顆粒圓整、流動性極小特點，經過對NdFeB磁粉的表面改性處理，與尼龍、塑料、橡膠等高分子聚合物復合采用注射、模壓等成型手段制備出用途廣泛的復合磁體，現已形成NdFeB氫化磁粉制備技術，磁粉表面改性處理技術、高分子復合磁體注射和模壓成形技術、復雜形狀磁體充磁技術等一系列成套工藝和技術。
該項目獲1998年度上海科技進步三等獎，在全國近十個省市幾十家單位得到了推廣，在電子、電機、計算機、信息通訊、醫療等許多領域得到廣泛應用，取得了顯著的社會和經濟效益。
主要特點技術性能:
磁粉制備技術投資少，見效快，工藝簡單、經濟磁粉性能穩定，一致性好，特別適于制備高分子復合磁體和器件。高分子復合磁體的制備技術適于小規模大批量生產。磁粉性能：(BH)max=7.0～9.0MGQe，高分子復合磁體能根據不同需求設計、制作、充磁。
技術的應用領域前景分析：
用途:
高分子復合磁體用途廣泛，主要能應用于各類儀表，微特電機，傳感器，自動控制系統、計算機、醫療及磁療器件等等。
效益分析：
經濟效益分析:
利潤率15～25%之間。
廠房條件建議：
無
備注：
無
