[00016189]帶有界面缺陷的二氧化鈦光催化多層薄膜的制備方法
技術詳細介紹
帶有界面缺陷的二氧化鈦光催化多層薄膜的制備方法
本發明提供了一種帶有界面缺陷的二氧化鈦光催化多層薄膜的制備方法，屬于二氧化鈦催化劑技術領域。通過低溫等離子體處理技術在TiO2多層薄膜的界面中引入缺陷，能有效的減少和避免缺陷的流失，促進光催化劑中光生電子-空穴對的分離，大大提高光催化效率。本發明制備的TiO2光催化多層薄膜具有很好的光致親水性，同時具有極好的光催化活性，能高效地進行光催化反應。此外，本發明多層薄膜應用范圍廣，成本低，使用方便，易于分離回收。
