[00013540]光電子單晶材料超光滑表面加工關鍵技術
技術詳細介紹
技術投資分析：
成果簡介
本項目采用化學機械超精密拋光方法，通過磨料微粒與工件加工面接觸部分的化學反應以及拋光液的腐蝕作用在加工表面形成化學反應薄層，利用微粒的機械摩擦作用去除反應層，高效率獲得鉭酸鋰單晶片超光滑拋光表面。
本項目可根據被加工材料的特性，優選拋光液，獲得提高拋光效率的化學反應層；并給出拋光盤轉速、拋光壓力、磨料粒度、拋光液PH值等主要拋光工藝參數的最優值，以實現高效率、高精度的晶片鋸切和無損傷鏡面拋光。
技術的應用領域前景分析：
本技術投資少，見效快，市場前景廣，特別適合于中小企業生產。
效益分析：
本項目市場應用范圍廣，成本低，利潤高，效益可觀。
廠房條件建議：
無
備注：
無
